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  • JZQL1800-12L真空气氛炉
    JZQL1800-12L真空气氛炉

    更新时间:2026-06-15

    浏览量:315

    真空气氛炉是一款周期作业式高温热处理设备,整体为箱式结构,凭借先进的制造工艺、稳定的温控系统密封、气路设计,广泛应用于高校实验室、科研院所及工矿企业,主要用于材料的气氛保护烧结、气氛还原等工艺,是高温材料研发与小批量生产的核心设备,综合性能优异,实用性强。
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  • JZ1200-216L真空气氛炉(外壳不锈钢)
    JZ1200-216L真空气氛炉(外壳不锈钢)

    更新时间:2026-06-15

    浏览量:344

    真空气氛炉(外壳不锈钢) 是一款大容积箱式高温炉,适用于工矿企业、科研院所、实验室开展批量样品热处理、材料烧结、烘干、退火等作业,凭借大炉膛空间、四面加热结构、智能温控系统与安全设计,兼顾处理效率与使用稳定性,是中大型高温加工及实验的优选设备。
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  • QLJZ-1200氢气还原气氛炉
    QLJZ-1200氢气还原气氛炉

    更新时间:2026-06-12

    浏览量:390

    氢气还原气氛炉为周期作业式高温热处理设备,采用双层壳体结构,最高使用温度 1200℃,控温精度 ±1℃。支持抽真空与通入多种工艺气体,搭载 30 段程序控温系统,升温速率可调,具备密封水冷、多重防护设计。适用于高校、科研院所及企业,可完成气氛烧结、还原等实验与生产作业。
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  • JZQL1200-36L真空气氛炉(触摸屏)
    JZQL1200-36L真空气氛炉(触摸屏)

    更新时间:2026-06-12

    浏览量:406

    真空气氛炉(触摸屏)是一款高性能高温热处理设备,最高温度可达 1200℃,控温精度 ±1.0℃,支持多段程序控温。设备可通入氮气、氩气等惰性气体,搭配真空系统与安全防护,炉膛结构耐用,操作智能便捷,适用于材料烧结、实验热处理等场景
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  • QLHY-15-17001700℃箱式气氛炉
    QLHY-15-17001700℃箱式气氛炉

    更新时间:2025-11-27

    浏览量:1497

    1700℃箱式气氛炉 本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
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  • QLHY1200-70-401200℃箱式气氛炉 744
    QLHY1200-70-401200℃箱式气氛炉 744

    更新时间:2025-11-27

    浏览量:1312

    1200℃箱式气氛炉 744 本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
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  • QLHY-20-12001200℃箱式气氛炉
    QLHY-20-12001200℃箱式气氛炉

    更新时间:2025-11-27

    浏览量:1448

    1200℃箱式气氛炉 本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
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  • 400*300*300恒温立式气氛炉
    400*300*300恒温立式气氛炉

    更新时间:2021-03-06

    浏览量:3043

    恒温立式气氛炉广泛应用于煤炭、电力、冶金、化工等化验室以及大专院校的实验室分析和工业热处理等行业。 技术特点: 1、采用单片机控制,数码管显示,薄膜按键选择,操作方便。 2、自动读温、控温、恒温、控时,结果需人工计算,试验数据不能存储。 3、一次试验可测定一批煤样的灰分或挥发分。 4、具有控温控时自选模块可方使用户进行检查性灼烧,或根据用户意愿进行温度及时间控制。
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