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气氛炉

恒温立式气氛炉真空井式气氛炉 1400℃双温区管式气氛炉 1200℃实验气氛炉 1400℃真空气氛炉 1100℃真空气氛炉 1600℃高温管式气氛炉 1700℃炉门可翻转箱式气氛炉箱式气氛路炉管式气氛炉

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JZQL1800-12L真空气氛炉

更新时间：2026-06-15

浏览量：636

真空气氛炉是一款周期作业式高温热处理设备，整体为箱式结构，凭借先进的制造工艺、稳定的温控系统密封、气路设计，广泛应用于高校实验室、科研院所及工矿企业，主要用于材料的气氛保护烧结、气氛还原等工艺，是高温材料研发与小批量生产的核心设备，综合性能优异，实用性强。
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JZ1200-216L真空气氛炉（外壳不锈钢）

更新时间：2026-06-15

浏览量：864

真空气氛炉（外壳不锈钢）是一款大容积箱式高温炉，适用于工矿企业、科研院所、实验室开展批量样品热处理、材料烧结、烘干、退火等作业，凭借大炉膛空间、四面加热结构、智能温控系统与安全设计，兼顾处理效率与使用稳定性，是中大型高温加工及实验的优选设备。
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QLJZ-1200氢气还原气氛炉

更新时间：2026-06-12

浏览量：726

氢气还原气氛炉为周期作业式高温热处理设备，采用双层壳体结构，最高使用温度 1200℃，控温精度 ±1℃。支持抽真空与通入多种工艺气体，搭载 30 段程序控温系统，升温速率可调，具备密封水冷、多重防护设计。适用于高校、科研院所及企业，可完成气氛烧结、还原等实验与生产作业。
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JZQL1200-36L真空气氛炉（触摸屏）

更新时间：2026-06-12

浏览量：753

真空气氛炉（触摸屏）是一款高性能高温热处理设备，最高温度可达 1200℃，控温精度 ±1.0℃，支持多段程序控温。设备可通入氮气、氩气等惰性气体，搭配真空系统与安全防护，炉膛结构耐用，操作智能便捷，适用于材料烧结、实验热处理等场景
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QLHY-15-17001700℃箱式气氛炉

更新时间：2025-11-27

浏览量：1757

1700℃箱式气氛炉本系列产品，额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
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QLHY1200-70-401200℃箱式气氛炉 744

更新时间：2025-11-27

浏览量：1596

1200℃箱式气氛炉 744 本系列产品，额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
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QLHY-20-12001200℃箱式气氛炉

更新时间：2025-11-27

浏览量：1595

1200℃箱式气氛炉本系列产品，额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
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400*300*300恒温立式气氛炉

更新时间：2021-03-06

浏览量：3192

恒温立式气氛炉广泛应用于煤炭、电力、冶金、化工等化验室以及大专院校的实验室分析和工业热处理等行业。技术特点： 1、采用单片机控制，数码管显示，薄膜按键选择，操作方便。 2、自动读温、控温、恒温、控时，结果需人工计算，试验数据不能存储。 3、一次试验可测定一批煤样的灰分或挥发分。 4、具有控温控时自选模块可方使用户进行检查性灼烧，或根据用户意愿进行温度及时间控制。
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