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  • HTCC升降式真空气氛炉(排胶烧结一体炉)
    HTCC升降式真空气氛炉(排胶烧结一体炉)

    更新时间:2026-05-21

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    升降式真空气氛炉(排胶烧结一体炉)为立式升降式真空气氛设备,适配 HTCC、MLCC 陶瓷电子件烧结。采用双层风冷结构、钼铜合金丝加热,PID 精准控温,温场均匀。可自动切换惰性气氛,实现脱脂烧结一体化,尾气环保处理,支持非标定制,广泛用于科研与陶瓷电子生产。
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  • 1400℃真空气氛炉
    1400℃真空气氛炉

    更新时间:2020-11-20

    浏览量:2814

    1400℃真空气氛炉是我司研发改进的新款产品,采用智能化程序控温系统,控温精度高。本款产品具备有加热系统,监测系统。预留有一路进气接口,真空系统接口,内循环水冷却系统接口,都可快速连接使用。本机功能*,操作简便,满足客户绝大部分要求。
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