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  • 1200℃五温区开启式管式炉
    1200℃五温区开启式管式炉

    更新时间:2020-11-20

    浏览量:761

    1200℃五温区开启式管式炉采用智能化程序温控系统,可控硅控制,控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统,有效降低外壳表面温度;开启式炉盖设计,可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温;真空级法兰密封,结合我司标准真空、混气系统,可抽真空通气氛;内置五个加热温区,可以营造不同的温度梯度。
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  • 1200℃小型开启式真空管式炉
    1200℃小型开启式真空管式炉

    更新时间:2020-11-20

    浏览量:861

    1200℃小型开启式真空管式炉采用智能化程序控温系统,可控硅控制,控温精度高;双层壳体结构,设计合理,外形美观,结构紧凑;双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温度;真空级法兰密封,结合我司标准真空、混气系统,可抽真空通气氛。
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  • 1400℃三温区管式炉
    1400℃三温区管式炉

    更新时间:2021-03-06

    浏览量:763

    1400℃三温区管式炉采用智能化程序温控系统,可控硅控制,控温精度高;高真空级法兰密封,结合我司标准真空、混气系统,可抽真空通气氛;以优质硅碳棒为加热元件,采用智能化控温系统,可控硅控制,控温精度高;炉腔采用日本技术真空吸附成型的优质1600型氧化铝多晶体纤维无机材料拼搭结构,长期使用不断裂、垮塌;炉体为双层炉壳,配有风冷系统,有效保证外壳表面温度;内置三个温区,可营造不同的温度梯度。
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  • 1700℃精密真空气氛管式炉
    1700℃精密真空气氛管式炉

    更新时间:2020-11-20

    浏览量:789

    1700℃精密真空气氛管式炉采用触摸屏控制系统,一键智能化操作,图文界面操作更便捷;高真空级法兰密封,结合我司标准真空、混气系统,可抽真空通气氛。适用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。
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  • 1200开启式管式炉
    1200开启式管式炉

    更新时间:2020-11-20

    浏览量:1142

    开启式管式炉 在真空压力下,加在电感线圈的射频电场,使反应室气体发生辉光放电,在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量,其本身温度很高,它与气体分子相碰撞,使气体分子活化。它们吸附在衬底上,并发生化学反应生成介质膜,副产物从衬底上解吸,随主气流由真空泵抽走,称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)。
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