当前位置：首页 > 产品中心 > 高品质电炉系列 > 管式炉 > PEVCD管式炉系统

PEVCD管式炉系统

简要描述：PEVCD 系统炉为中型滑动开启式设备，适配 1200‑1700℃工艺。集成等离子射频电源、三路混气系统与真空组件，炉体可滑动实现快速升降温。可调控薄膜应力与化学计量比，沉积 SiOx、SiNx 等材料，广泛用于薄膜材料研发实验，性能稳定、集成度高

更新时间：2026-05-11
浏览次数：14
产品地址：上海市青浦区华新镇嘉松中路518号A205
产品分类：管式炉

产品咨询联系我们

Product Category

高品质电炉系列

台车烘箱可调温电炉工业用电炉多工位真空管式炉滑动式管式炉高温立式炉精密智能立式炉上开门立式炉上开门箱式热处理炉箱式加热炉箱式电炉台车炉钟罩炉煅烧型马弗炉钼棒高温炉上海马弗炉立式马弗炉碳化硅炉膛马弗炉马弗炉定制自动台车炉立式气氛炉大型气氛炉大管径管式炉滑动导轨管式炉管式炉钼棒管式炉平行门马弗炉观察窗马弗炉马弗炉迷你型触摸屏马弗炉 1800℃高温炉 1400℃高温炉升降式高温炉

品牌	JZ/精钊	价格区间	5万-10万
仪器种类	管式炉	产地类别	国产
应用领域	电子/电池

PEVCD 系统炉是面向薄膜材料制备的中型滑动开启式专用设备，拥有 1200℃、1500℃、1700℃多温区规格，整套设备集成等离子射频电源、三路质量流量混气系统、开启式管式炉及真空机组，可一站式完成气相沉积实验。设备炉体可左右滑动，搭配射频电源同步位移，实现快速升降温；300W 射频电源可产生等离子增强效应，降低实验温度，通过频率精准调控薄膜应力，工艺参数可调，可沉积 SiOx、SiNx、a‑Si:H 等多种功能薄膜。温控系统采用 50 段智能可编程 PID 控制，控温精度 ±1℃；真空系统搭配双旋片式机械泵，真空度可达 10‑2torr；三路高精度混气系统精准配比反应气体。整机符合 CE、ISO9001 标准，核心部件品质可靠，是半导体、新能源、新材料领域薄膜制备的核心实验设备。

PEVCD管式炉系统

PEVCD管式炉系统

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：